イオン注入

イオン注入（イオンちゅうにゅう、英語: ion implantation）は、物質のイオンを固体材料に注入し、固体材料の物性を変化させる材料科学的手法である。電子工学分野で半導体デバイスの生産に利用される他、金属の表面処理にも利用される。

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