ナノインプリント・リソグラフィ

ナノインプリント・リソグラフィとは現在開発が進められている半導体の微細パターン転写技術である。従来のパターン作成には縮小投影型露光装置（ステッパー）が使用されていたが、微細化に伴い、極端紫外線露光装置の価格とパターンマスクの価格が高騰していて、導入に躊躇する半導体メーカーが続出しており、普及の妨げになっていた。