二次イオン質量分析法
二次イオン質量分析法(にじイオンしつりょうぶんせきほう、英: Secondary Ion Mass Spectrometry、略称:SIMS)とは、質量分析法におけるイオン化方法の種類の一つである。 特に固体の表面にビーム状のイオン(一次イオンと呼ばれる)を照射し、そのイオンと固体表面の分子・原子レベルでの衝突によって発生するイオン(二次イオンと呼ばれる)を質量分析計で検出する表面計測法である。
二次イオン質量分析法(にじイオンしつりょうぶんせきほう、英: Secondary Ion Mass Spectrometry、略称:SIMS)とは、質量分析法におけるイオン化方法の種類の一つである。 特に固体の表面にビーム状のイオン(一次イオンと呼ばれる)を照射し、そのイオンと固体表面の分子・原子レベルでの衝突によって発生するイオン(二次イオンと呼ばれる)を質量分析計で検出する表面計測法である。
二次イオン質量分析法(にじイオンしつりょうぶんせきほう、英: Secondary Ion Mass Spectrometry、略称:SIMS)とは、質量分析法におけるイオン化方法の種類の一つである。 特に固体の表面にビーム状のイオン(一次イオンと呼ばれる)を照射し、そのイオンと固体表面の分子・原子レベルでの衝突によって発生するイオン(二次イオンと呼ばれる)を質量分析計で検出する表面計測法である。
出典: Wikipedia「二次イオン質量分析法」 · CC BY-SA 4.0
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