極端紫外線リソグラフィ
極端紫外線リソグラフィ (きょくたんしがいせんリソグラフィ、英語: Extreme ultraviolet lithography、略称：EUVリソグラフィ または EUVL) は、極端紫外線、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。 == 概要 == EUVLは、2018年から実用化されている露光技術であり、7 nmノード以下の露光に使用するために導入されている。
極端紫外線リソグラフィ (きょくたんしがいせんリソグラフィ、英語: Extreme ultraviolet lithography、略称：EUVリソグラフィ または EUVL) は、極端紫外線、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。 == 概要 == EUVLは、2018年から実用化されている露光技術であり、7 nmノード以下の露光に使用するために導入されている。
極端紫外線リソグラフィ (きょくたんしがいせんリソグラフィ、英語: Extreme ultraviolet lithography、略称：EUVリソグラフィ または EUVL) は、極端紫外線、波長13.5 nmにて露光する次世代露光技術である。 == 概要 == EUVLは、2018年から実用化されている露光技術であり、7 nmノード以下の露光に使用するために導入されている。
出典: Wikipedia「極端紫外線リソグラフィ」 · CC BY-SA 4.0
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