自己整合

自己整合（じこせいごう、英: Self-alignment）とは、例えば半導体等の集積回路作製プロセスにおいて、既に形成されたパターンを次のプロセスのマスクとして利用し、マスクの位置合わせ無しで次のプロセスを進めることである。また、最初のパターンあるいは形状が最終的な素子のパターンあるいは形状を決定する場合も自己整合と呼ぶ。