RCA洗浄

半導体製造におけるRCA洗浄とは、シリコンウェハーの標準的な洗浄方法で、高温プロセス（酸化、拡散、化学気相成長）の前に行われる。 RCA社のWerner Kernが1965年に基本的なプロセスを開発した。